超分辨纳米光学光刻装备
发布时间：2019-04-18 阅读次数：
成果：
采用一种崭新的利用表面等离子体超越衍射极限的光学光刻原理和技术方法。使用365nm光源单次曝光，最高可获得22nm分辨力图形，克服了传统光学光刻分辨力受衍射极限限制的原理性障碍，形成了一条有别于传统光刻技术的全新光学光刻技术路线。
技术指标和市场前景：
可应用于探测、显示、表面处理、生物传感等领域，具有良好的市场前景。
高校院所：中国科学院光电技术研究所
成果归属：中国科学院光电技术研究所
所处阶段：其他
技术领域：先进制造
行业分类：先进制造
先进性：其他
拥有专利情况：有
获奖情况：暂无
融资需求（万元）：0.00
需求有效期：1年
合作方式：其他
联系人：赵小东 028-85100055
单位地址：
所在市县区：安徽省合肥市蜀山区
所在孵化器、众创空间名称：中国科学院合肥物质科学研究院
单位简介：
主要产品：