发明专利名称：一种多孔二氧化硅纳米片及其制备方法

发明人：安徽大学

专利号： 201811204773.6

专利申请日期：2018年10月16日

授权公告日：2018年12月18日

原理摘要：1.多孔二氧化硅纳米片的长宽在200-2000 nm之间、厚度可控，比表面积范围为450-800 m²/g ，平均孔径约2.3 nm。以水为体系生产纳米片，环保无污染，能耗低，成本低。2.纳米片表面易于进行官能团修饰，可以获得羧基、氨基、巯基、磺酸基、荧光、磁性等系列功能化二氧化硅纳米片。

应用范围：多孔二氧化硅纳米片既可以作为功能性增强填料，用于塑料、橡胶、涂料等领域；也可作为催化剂、荧光分子、药物、蛋白等各类客体分子的优良载体，广泛应用在催化、吸附、分离、生物医学、传感器等领域。

转让价格：20万

联系方式：窦老师  0551-63861873 邓工 0551-66223812